第四百六十六章 把ARM打成筛子(1/5)
「获得VEU认证的企业可免于逐案申请出口许可证,直接采购美国技术设备,显著提升供应链效率。」陈学兵看完资料上这一句,抬头道:
“就这一句解释吗?没有其他的?具体适用于哪些方面的采购?”
任颖摇了摇头:“这一句还是杜克林奇发过来的,我查了,网上没有关于这项许可的资料,应该是个新许可。”
“翻墙查了吗?”
“翻了,也没有。”
陈学兵再次看了一眼那行字,嘴角有了一丝笑容,但因不确定性又压了下去,当即起身。
“邮件联系杜克林奇,我在办公室等你回复。”
中国的上午,正是华盛顿的晚上八九点。
中午时分,终于等到了任颖的回复,进门的第一句话就让陈学兵振奋。
“董事长!可以直接获取指定EDA工具,IP核,设计软件,测试设备等受控物项,无需逐笔申请美国出口许可,还有,可以跟美系IP厂商建立低风险合作通道,优先获得技术支持与版本更新!”
陈总有些震惊地站起来:“可以拿到最先进制程?”
“不是不是。”任颖赶紧否认:“是优先获得「已开放的制程」,可以把几个月的审批时间缩短到两个周,并且不需要逐项申请,相当于至少能给我们节省一年,而且90nm成熟制程物项就包含在这个VEU制度落地的首批许可
范围内,只要宣布落地,就算正式放开了。”
“也就是说...只要拿到VEU,我们马上就可以在国内设计90nm了。”
陈学兵背着手来回踱步。
90nm制程即使正式放开,对中国芯片设计厂商来说也需要登上数以经年的时间,因为那边宣布放开了,进口依然需要申请,这个就得靠关系运作,BIS部门短则几个月能通过,长则一年不搭理你都有可能。
那这个许可确实是有用的,能节省很多时间。
而且...可以跟美系IP厂商建立低风险合作通道,那就代表台积电也没理由拒绝他了,可以直接跟台积电对接先进制程代工。
他转念一想,道:“光刻机呢?DCT能不能申请?”
任颖似乎早就知道他会想到这里,立即道:“不包括先进制程制造设备,比如ASML DUV光刻机整机的采购权,不提供EDA核心源码,并且受地缘监管约束,敏感领域,比如军事和航天应用会被远程禁止,且授权随时可被取
消。”
陈学兵皱了皱眉:“那光刻机相关材料呢?行不行?”
“我不清楚DCT有哪些具体材料需要特殊许可,所以没问。”
“激光光源器件啊!还有德国的物镜,美国高精度温控、去泡传感器,空气承轴,日本抗水光刻胶!”
陈学兵有点恨铁不成钢,跟任颖科普起来,一口气报了诸多核心器件。
而且还是搞浸没式DUV用的。
“美国本土没有成熟光刻机厂商,他们最后一家整机厂SVG,2001年就被ASML收购了,按理说我们搞光刻机整机,在美国国内没有掣肘力量,他们虽然没有整机厂,却在光刻机上游有很多厂商,Cymer的193nm ArF光
源,应用材料、泛林、科天都在提供光刻机配套设备,如果能获得他们的供应链进口许可,DCT可以快速完成干式,开始浸没式研发。”
任颖闻言感觉到了重要性,眼里有些工作失误的愧疚。
“那我现在去问。”她说着转身就要走。